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本文从工业化生产的观点,对各种光刻技术进行ULSI规模生产的能力及问题给以简要比较说明,提出发展光学光刻技术作为下一代0.35μm和0.25μmULSI工业化生产的主导光刻技术,是光刻技术本身发展和半导体工业发展的必然。
光学光刻仍是下一代ULS工规模生产的主导光刻技术
【摘 要】
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本文从工业化生产的观点,对各种光刻技术进行ULSI规模生产的能力及问题给以简要比较说明,提出发展光学光刻技术作为下一代0.35μm和0.25μmULSI工业化生产的主导光刻技术,是
【机 构】
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中国技术经济学会会员
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1991年3期
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