【摘 要】
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采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）,以甲烷和氢气为反应气体,在综合性能良好的Mo-40%Re（摩尔分数）合金基体上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）和显微
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采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）,以甲烷和氢气为反应气体,在综合性能良好的Mo-40%Re（摩尔分数）合金基体上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）和显微激光拉曼光谱仪（Raman）分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析,研究CVD沉积参数,如基体温度（θs）、碳源浓度（R,CH4的体积分数）和沉积压强（p）,对金刚石形核、生长和金刚石成膜的影响。结果表明：在合适的基体预处理条件下,当θs=750℃,R=3%,p=3.5 kPa时,薄膜
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