【摘 要】
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首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与
【机 构】
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中国矿业大学孙越崎学院,中国矿业大学机电工程学院,
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首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后重点介绍了浸没光刻、极紫外光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻、纳米压印光刻等技术的概念、发展过程和特点,并对不同光刻技术的优缺点和生产适用条件进行了比较。最后结合国内外生产商、工程师和研究学者的研究成果,对光刻技术的未来发展做出展望。
First introduced the micro-nano manufacturing key process technology - lithography. Review the development of lithography technology, introduced the basic principles and characteristics of the mainstream lithography technology in all stages. The research status of lithography at home and abroad is expounded, and the challenges faced by lithography and micro / nano manufacturing technology and the key technical problems to be solved are discussed. Then the concept, development process and characteristics of immersion lithography, extreme ultraviolet lithography, electron beam lithography, ion beam lithography, X-ray lithography and nanoimprint lithography are introduced emphatically. Advantages and disadvantages and production conditions were compared. Finally, combined with the research results of domestic and foreign manufacturers, engineers and researchers, the prospect of the future development of lithography is prospected.
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