新型可见光响应的InVO4-Cu2O-TiO2三元纳米异质结:制备及其光催化性能

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由于日益严重的环境和能源危机,可见光催化剂的开发已成为当今最具挑战和紧迫的任务之一.将TiO2和其它窄禁带半导体复合,已被证明是一种有效的可提高其可见光光催化性能的策略.Cu2O是一种禁带宽度为2.0 eV的p型窄禁带半导体,InVO4则是一种禁带宽度为2.0 eV的n型半导体,因它们可用于可见光光解水产氢和有机污染物的可见光降解而在过去的数年中引起了人们广泛的关注.但是纯的Cu2O和InVO4由于光生电子空穴对在其内部快速地复合,光催化活性通常都比较低.基于能带工程的策略本文设计了一种新型的可见光响应的
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