纳米孔径核孔膜的制备研究

来源 :高能物理与核物理 | 被引量 : 0次 | 上传用户：oklizheng

【摘要】

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高能硫、氪、氙离子轰击聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化．用电导法着重研究蚀刻条件对样品的归一亿径迹蚀刻速率(灵敏度)的影响，结果表明优化条件

【作者】

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彭良强王世成巨新 P.Yu.Apel 吉田胜前川康成

【机构】

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FlerovLaboratoryofNuclearReactions,日本原子力研究所高崎研究所群马县高崎市岩鼻町1233,中国科学院高能物理研究所

【出处】

：

高能物理与核物理

【发表日期】

：

2001年2期

【关键词】

：

纳米孔径核孔膜制备电导法等离子蚀刻灵敏度高能重离子

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高能硫、氪、氙离子轰击聚酯(PET)和聚碳酸酯(PC)膜后，对样品进行陈化和紫外线照射敏化．用电导法着重研究蚀刻条件对样品的归一亿径迹蚀刻速率(灵敏度)的影响，结果表明优化条件下灵敏度较通用条件下提高约2倍，PET的灵敏度可达1000，PC的灵敏度可达2000，可以用于制备纳米孔径核孔膜．核孔膜中填充的铜纳米线的电镜照片显示出纳米线最小直径为20nm．用电导法计算纳米孔的孔径，该值与纳米线直径的电镜测量值在孔径大于30nm时符合良好．

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