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本文针对电子莫尔条纹干涉方法，提出了用单一及双金属涂层方法来制备模拟光栅。对电子莫尔条纹干涉法的测量原则及制备模拟光栅的技术详细作了说明。讨论了利用该法进行应力测量的精度。在不同的基质片上，制备了频率高达5000线／毫米的单一涂层及双涂层的光栅。从实验结果来看，单一金属涂层和双金属涂层光栅都表明了其耐热性。利用所制备的光栅和复制的模拟光栅，将电子莫尔条纹方法应用于测量聚酰亚胺脂基质片孔洞周围应力的形变，电子设备外壳组件的热应力以及纯铜样品颗粒界面周围的拉伸蠕变。