【摘 要】
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采用磁过滤阴极真空弧源（FCVA）沉积技术，通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜，用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度；采用X射线衍射（XRD）分析技术进行了TiAlN薄膜
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采用磁过滤阴极真空弧源（FCVA）沉积技术，通过改变氮气流量在硬质合金基体上沉积了TiAlN薄膜，用显微硬度计测定了TiAlN薄膜的硬度和厚度；采用X射线衍射（XRD）分析技术进行了TiAlN薄膜的相分析；并进行了摩擦磨损试验和对基体与薄膜的结合力进行定性的分析。结果表明：TiAlN薄膜厚度在450～520nm之间；最高硬度为2754Hv，对应氮气分压为N2分压在8．0×10^-2Pa～1．1×10^-1Pa；薄膜中主要存在Ti2AlN、Ti2N与TiN相。
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