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3．3化学镀N-P析出状态时对Ni局部腐蚀的影响析出状态为层状和柱状析出的化学镀Ni-P镀层之间确认了镀Au层表面上扩散的Ni浓度的差异。这是由于与还原镀Au置换镀Au时进行的Ni局部腐蚀现象有关，观察了还原镀Au层／置换镀Au层／Ni-P镀层的截面和剥离镀Au层以后的Ni镀层状态。
化学镀Ni—P镀层状态对引线键合的影响（2）
【摘 要】
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3．3化学镀N-P析出状态时对Ni局部腐蚀的影响析出状态为层状和柱状析出的化学镀Ni-P镀层之间确认了镀Au层表面上扩散的Ni浓度的差异。这是由于与还原镀Au置换镀Au时进行的Ni局
【机 构】
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江苏南京
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2012年3期
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