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高纯钛溅射靶现在已广泛应用于半导体装置制造的金属镀工艺中,日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等,供给全世界的半导体厂家.
高纯钛靶表面处理技术开发
【摘 要】
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高纯钛溅射靶现在已广泛应用于半导体装置制造的金属镀工艺中,日本的日矿材料公司生产高纯钛溅射靶、铜、钽、钴、钨、镍等高纯金属以及合金靶、钛硅化物靶等,供给全世界的半
【出 处】
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稀有金属快报
【发表日期】
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2004年12期
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