磁控溅射参数对ZrB2/ZrAlN纳米多层膜结构和性能的影响

来源 :天津师范大学学报（自然科学版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：a595165933

【摘要】

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选择ZrB2和ZrAlN作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统在80 nm调制周期下,制备了一系列ZrB2/ZrAlN纳米多层膜,用XRD、表面轮廓仪和纳米力学测试系统分析了物相及晶体

【作者】

：

亢原彬 DONG Lei 刘思鹏 QIAO Lin 陈宗强

【机构】

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天津师范大学物理与电子信息学院

【出处】

：

天津师范大学学报（自然科学版）

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

ZrB2/ZrAlN纳米多层膜射频磁控溅射 Ar/N2流量比例硬度

【基金项目】

：

天津市科技计划国际合作项目;

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选择ZrB2和ZrAlN作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统在80 nm调制周期下,制备了一系列ZrB2/ZrAlN纳米多层膜,用XRD、表面轮廓仪和纳米力学测试系统分析了物相及晶体结构.研究表明:纳米多层膜体系的各项性能随着Ar/N2流量比例的变化而变化,多层膜的纳米硬度值和弹性模量均高于两种个体材料混合相的硬度值,残余应力也得到缓解,合适的N2气分压可以使多层膜体系的机械性能达到最佳.

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