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主要通过模拟匝间流动试验、短样试验和长样试验等,探求低温超导托卡马克HT-7U中从场磁体线圈的绝缘层真空压力浸渍的工艺参数,确定工艺流程,并以模型线圈试验的电性能和液氦温度下的力学性能来验证工艺参数及工艺流程的可靠性.
HT-7U纵场磁体的真空压力浸渍
【摘 要】
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主要通过模拟匝间流动试验、短样试验和长样试验等,探求低温超导托卡马克HT-7U中从场磁体线圈的绝缘层真空压力浸渍的工艺参数,确定工艺流程,并以模型线圈试验的电性能和液氦
【机 构】
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中科院等离子体物理研究所(合肥)
【出 处】
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中国真空学会薄膜技术学术交流会
【发表日期】
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2001年10期
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