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电光调制技术在光刻对准中的应用
电光调制技术在光刻对准中的应用
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lmaster
【摘 要】
:
介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理,详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理,并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响.结果表明,使用电光调制技
【作 者】
:
梁友生
曹益平
周金梅
邢廷文
【机 构】
:
四川大学光电科学技术系,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
2005年1期
【关键词】
:
光刻
对准
对准精度
电光调制技术
杂散光抑制
lithography
alignment
alignment accuracy
electro-optica
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介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理,详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理,并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响.结果表明,使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准精度.
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