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针对光刻胶刻蚀过程模拟,提出了一种新的2-D动态元胞自动机(CA)算法.算法既有稳定性好的优点,又有运算速度快的优点.采用一些公认的光刻速率分布测试函数非常有效地模拟了光刻过程,算法在腐蚀速率变化非常大的区域也非常稳定.用该动态CA算法模拟了负化学放大胶的光刻过程,模拟结果与已有的实验结果一致.表明建立的2-D动态CA算法可以有效地用于光刻胶刻蚀过程的模拟.