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采用分子动力学方法复现了铜团簇粒子束注入硅基底的动力学过程.基于平衡态的统计热力学理论,建立了单一粒子注入过程的数值模拟模型,系统研究了影响注入过程的相关参数,详细对比和讨论了粒子尺寸（数量）、初始注入能量和角度的影响.同时,使用可视化方法记录分析了界面处纳观相变过程,给出了注入率与各参数的线性函数关系,揭示了低注入能量域内的新特征和内在机理.所得模拟结果和相关数据为纳米尺度的功能器件设计、加工和性能分析提供了有效参考和理论依据.