【摘 要】
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本专利介绍一种红外扫描显微技术,它可以用于对半导体晶片和平板进行评价。该技术是以无损和三维形式工作的,具有分辨率高和信噪比充分的优点。硅的相对透明波长是近红外区
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本专利介绍一种红外扫描显微技术,它可以用于对半导体晶片和平板进行评价。该技术是以无损和三维形式工作的,具有分辨率高和信噪比充分的优点。硅的相对透明波长是近红外区的1.3μm。该技术使用的是从样品上以大于90°的
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