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利用中频对靶磁控溅射技术,分别制备出厚度低于5μm、表面光滑的TiO2、ZrO2、Al2O33种功能薄膜。研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌,用四探针法测量了材料的薄膜电阻,并表征了膜层材料在大气压热等离子射流急速加热条件下的抗热冲击特性。
中频对靶反应磁控溅射Al2O3、TiO2、ZrO2功能薄膜的特性研究
【摘 要】
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利用中频对靶磁控溅射技术,分别制备出厚度低于5μm、表面光滑的TiO2、ZrO2、Al2O33种功能薄膜。研究了不同工艺条件下薄膜的成膜速率和表面形貌,用四探针法测量了材料的薄膜
【机 构】
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中国科学院力学研究所工程科学部
【出 处】
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新技术新工艺
【发表日期】
：
2008年08期
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