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MoSi2电热材料表面氧化层裂纹的形成机制
MoSi2电热材料表面氧化层裂纹的形成机制
来源 :山东大学学报(工学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:yh920927
【摘 要】
:
研究了在周期加热氧化条件下MoSi2电热材料表面氧化层中裂纹的形成机制.发现表面层中SiO2析出晶体以后,裂纹沿析出晶体的边界发展,一般不穿过晶体本身.氧化动力学曲线的变化
【作 者】
:
常春
陈传忠
崔建军
【机 构】
:
250061
【出 处】
:
山东大学学报(工学版)
【发表日期】
:
2003年1期
【关键词】
:
裂纹
氧化层/二硅化钼
Crack
Oxidizing layer/Molybdenum disilicide
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研究了在周期加热氧化条件下MoSi2电热材料表面氧化层中裂纹的形成机制.发现表面层中SiO2析出晶体以后,裂纹沿析出晶体的边界发展,一般不穿过晶体本身.氧化动力学曲线的变化规律符合对数关系.表面氧化物的摩尔体积明显大于基体的摩尔体积,是氧化层产生内应力和引起开裂的主要原因之一.
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