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高性能InGaAs/AlAs共振隧穿二极管的研制与器件模拟分析
高性能InGaAs/AlAs共振隧穿二极管的研制与器件模拟分析
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rangman
【摘 要】
:
在半绝缘的InP衬底上采用分子束外延的方法生长制备了不同势垒厚度的RTD材料样品,室温下测量的最高峰.谷电流比为18.39.通过模拟得到RTD直流特性与势垒厚度、势阱材料及厚度、隔
【作 者】
:
马龙
张杨
戴扬
杨富华
曾一平
王良臣
【机 构】
:
中国科学院半导体研究所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2007年4期
【关键词】
:
共振隧穿二极管
峰-谷电流比
电流-电压特性
器件模拟
resonant tunneling diodes peak-to-valley current rat
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在半绝缘的InP衬底上采用分子束外延的方法生长制备了不同势垒厚度的RTD材料样品,室温下测量的最高峰.谷电流比为18.39.通过模拟得到RTD直流特性与势垒厚度、势阱材料及厚度、隔离层厚度以及掺杂浓度间的关系,对结果进行了分析与讨论.
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