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磷(P31^+)注入Si的快速退火电特性
磷(P31^+)注入Si的快速退火电特性
来源 :微电子学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:asd010asd
【摘 要】
:
本文报告了P_(31)~+离子注入Si中快速退火的电特性研究结果。采用高精度四探针测量了P_(31)~+注入层在不同注入剂量下,薄层电阻与退火温度和退火时间的关系。采用自动电化学
【作 者】
:
范才有
【机 构】
:
四川固体电路研究所
【出 处】
:
微电子学
【发表日期】
:
1990年2期
【关键词】
:
VLSI
离子注入
退火
电化学测量
Ion implantation
Rapid annealing
Electrochemical measuremen
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本文报告了P_(31)~+离子注入Si中快速退火的电特性研究结果。采用高精度四探针测量了P_(31)~+注入层在不同注入剂量下,薄层电阻与退火温度和退火时间的关系。采用自动电化学测量仪PN-4200,测量了P_(31)~+离子注入Si中的载流子剖面分布。
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