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采用侧墙工艺技术研制深亚微米Ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射Ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形。
同步辐射X射线光刻实验研究
【摘 要】
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采用侧墙工艺技术研制深亚微米Ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射Ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形。
【机 构】
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中国科学院微电子中心,中国科学院高能所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1997年6期
【基金项目】
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攀登计划PD930307资助项目
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