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GeSi/Si Mach—Zehnder干涉型调制器的研制
GeSi/Si Mach—Zehnder干涉型调制器的研制
来源 :光电子.激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:f520li
【摘 要】
:
基于GeSi合金的等离子体色散效应,研制了一种Mach-Zehnder干涉型调制器,通过对其损耗和调制特征的测试得到:调制器对1.3μm光的插入损耗为6.5dB,最大调制深度达85%,相应的π相移调制民压为0.9V,关断电流和调制区的注
【作 者】
:
李宝军
万建军
【机 构】
:
复旦大学应用表面物理国家重点实验室!上海200433,西安交通大学微电子工程系!西安710049,复旦大学?
【出 处】
:
光电子.激光
【发表日期】
:
2000年1期
【关键词】
:
调制器
光波导
硅化锗合金
干涉型
modulatoroptical waveguideGe Si
【基金项目】
:
国家“八六三”计划资助项目,国家自然科学重点基金资助项目!( 696360 1 0 ),中国博士后基金
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基于GeSi合金的等离子体色散效应,研制了一种Mach-Zehnder干涉型调制器,通过对其损耗和调制特征的测试得到:调制器对1.3μm光的插入损耗为6.5dB,最大调制深度达85%,相应的π相移调制民压为0.9V,关断电流和调制区的注入电流密度分别为40mA和0.97kA/cm^2。
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