弧光放电法原位清洗光学元件

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光学元件受到污染后其光性能会变差,如何对其进行清,尽可能地恢复其原来的性能,使其能够重新使用显得的重要,本文 一种碳污染的原位清洗方法-射频弧放电法,利用原子氧与光学元件表面所沉积的碳反庆以达到清洗的目的,清洗装置建立后对北京同步辐射装置(BSRF)上所使用的光学元件进行了清洗,取得了较好的效果。
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