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本文报导了在300－410℃下采用MOCVD技术制备多晶（非晶和微晶）薄层氧化物TiO2（Fe2O3,SnO2和In2O3·Sn）膜的结果，这些薄层氧化物的结构，表面形态和光电化学性质采用X－射线衍射，电子显微镜和三电极方法进行描述。实验指出，这些薄层氧化适宜于作为光电极的透明导电涂层和分解水的光催化。