【摘 要】
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运用直流磁控溅射法,采用ZAO陶瓷靶材（Al2O3相对含量2%（质量分数））,结合正交实验表通过改变制备工艺中的基片温度、溅射功率、氧流量百分比等参数,在普通玻璃衬底上制备得到ZnO∶
【机 构】
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兰州理工大学甘肃省有色金属新材料省部共建国家重点实验室
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运用直流磁控溅射法,采用ZAO陶瓷靶材（Al2O3相对含量2%（质量分数））,结合正交实验表通过改变制备工艺中的基片温度、溅射功率、氧流量百分比等参数,在普通玻璃衬底上制备得到ZnO∶Al（ZAO）透明导电薄膜。通过X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、荧光分光光度计、四探针测试仪对样品的晶体结构、表面形貌、光电性能进行表征分析。通过正交分析法得出直流磁控溅射法制备ZAO薄膜的最佳组合工艺为基片温度200℃,溅射功率40W,氧流量百分比20%,退火温度400℃,获得薄膜样品最低方块电阻11Ω/□,薄
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