反应磁控溅射法制备TiO2薄膜

来源 :绍兴文理学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:junwen2009
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采用反应磁控溅射法在不同条件下制备了TiO2薄膜样品,研究了衬底温度、氧分压、溅射压强等生长条件对薄膜结构特性的影响.得到了反应磁控溅射法制备锐钛矿相TiO2薄膜的最佳沉积条件,并对薄膜的表面形貌进行了测量.
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