光伏新材料——掺氮碳薄膜溅射制备技术及测试

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ccw629

【摘要】

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介绍了采用氮气离子束溅射,高纯石墨为靶材,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺技术.对薄膜的沉积过程作了讨论,采用X射线光电子能谱(XPS)技术等对薄膜结构成分、氮-碳、碳-碳原子之

【作者】

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丁正明周之斌崔容强孙铁囤贺振宏

【机构】

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上海交通大学分析测试中心,上海交通大学物理系太阳能研究所

【出处】

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固体电子学研究与进展

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

：

光伏材料掺氮碳薄膜溅射制备技术测试碳/硅异质结 X射线光电子能谱太阳能电池 carbon thin films dopedwith nitrogen

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介绍了采用氮气离子束溅射,高纯石墨为靶材,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺技术.对薄膜的沉积过程作了讨论,采用X射线光电子能谱(XPS)技术等对薄膜结构成分、氮-碳、碳-碳原子之间的键以及结合能作了研究,在(111)单晶硅片上沉积掺氮碳薄膜,构成C/Si异质结,在100 mW/cm2光照下,开路电压达200 mV.

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