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该文报道了用Ar~+离子束刻蚀Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜,得到线宽40、20和10μm的微桥图案,刻蚀后的微桥Tc基本没有下降,微桥的SEM照片显示图案边缘清晰,该实验研究了刻蚀参数对薄膜刻蚀速率的影响.
离子束刻蚀YBCO超导薄膜
【摘 要】
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该文报道了用Ar~+离子束刻蚀Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜,得到线宽40、20和10μm的微桥图案,刻蚀后的微桥Tc基本没有下降,微桥的SEM照片显示图案边缘清晰,该实验研究了刻蚀
【机 构】
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华中理工大学光电子工程系,华中理工大学光电子工程系武汉,武汉,武汉
【出 处】
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低温与超导
【发表日期】
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1993年3期
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