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MOSFET漏源之间的电流通过一个沟道(Channel)上的栅(gate)来控制。按MOSFET的原意,MOS代表金属(Metal)氧化物(Oxide)-半导体(Semiconductor),即以金属层(M)的栅极隔着氧化层(O)利用电场的效应来控制半导体(S)。FET(Field Effect Transistor,场效应晶体管)的名字也由此而来。然而HEXFET中的栅极并不是金属做的,而是用多晶硅(polysilicon)来做栅极,这也就是图中所注明的硅栅极(silicon gate)。IR在1978