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基于光电子成像光谱技术原理,研究了双光子共振三光子电离方法获得的光电子成像图谱.着重分析了多通道电离过程中光电子的干涉作用对成像光谱的影响.结果表明,多通道电离过程中产生的光电子角分布与激发态的能态特点有关.
多通道电离过程中光电子角分布的干涉分析
【摘 要】
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基于光电子成像光谱技术原理,研究了双光子共振三光子电离方法获得的光电子成像图谱.着重分析了多通道电离过程中光电子的干涉作用对成像光谱的影响.结果表明,多通道电离过程
【机 构】
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陕西师范大学物理学与信息技术学院
【出 处】
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陕西师范大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2009年2期
【基金项目】
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陕西省自然科学基金资助项目(2007A04)
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