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非平衡磁控溅射离子镀和等离子体浸没离子注入及沉积技术在表面改性技术中受到广泛重视。文中利用N等离子体浸没离子注入技术原位增强铀表面离子镀Ti薄膜（磁控溅射沉积5min），制备了含Ti的TiNx薄膜，以降低TiN镀层的脆性，探讨了该薄膜和膜-基界面在96℃、相对湿度96％的大气湿热环境下的腐蚀行为。50keV的N等离子体增强沉积的Ti膜组织致密，形成了部分TiM，在膜-基界面产生了Ti，N，U共混区。