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期刊论文
CVD金刚石在电真空器件中的应用
CVD金刚石在电真空器件中的应用
来源 :电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:FlamesTsui
【摘 要】
:
介绍了化学气相沉积(CVD)金刚石膜应用于电真空器件夹持杆及输能窗方面的研究进展,以及国外对CVD金刚石封接技术解决方案以及国内CVD金刚石膜金属化及封接方面的研究情况.
【作 者】
:
李新宇
郭辉
刘征
高陇桥
【机 构】
:
北京真空电子技术研究所,北京,100016河北激光研究所,河北,石家庄,050081
【出 处】
:
电子陶瓷、陶瓷-金属封接与真空开关管用陶瓷管壳应用研讨会
【发表日期】
:
2009年9期
【关键词】
:
化学气相沉积
金刚石膜
电真空器件
封接技术
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介绍了化学气相沉积(CVD)金刚石膜应用于电真空器件夹持杆及输能窗方面的研究进展,以及国外对CVD金刚石封接技术解决方案以及国内CVD金刚石膜金属化及封接方面的研究情况.
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