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采用半导体工艺的旋转涂胶法，在矩形铁氧体衬底上旋涂抗蚀剂，研究了其涂覆特性，给出了抗蚀剂的厚度与旋涂转速和旋涂时间的关系曲线及均匀性。随着旋涂转速的提高，抗蚀剂的厚度逐渐减薄；当旋涂转速大于2500r／min时，抗蚀剂厚度差小于5％。同时，随着旋涂时间的延长，抗蚀剂厚度也会减小，并最终趋向一个恒定值；当旋涂时间长于20s时，抗蚀剂厚度差小于5％。最后，分析了旋涂中心对抗蚀剂旋涂性能的影响。