单晶锗表面键合光敏染料的研究

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qianjiuzhou
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本文在烯丙醇单体上进行了两种一甲川菁的合成,并用一种新的化学键合法将两种一甲川菁染料键合在抛光的半导体单晶锗表面.将键合有光敏染料的锗片进行了激光Raman光谱及XPS谱测试, 结果表明,与对照锗片相比,键合后的锗片表面,锗衬底的一级拉曼峰强度减少,并在600~3 200 cm-1范围内出现了与键合颜料分子相应的拉曼频移;在XPS谱中,分别进行了C,N,O,S,卤素等原子的谱图分析,证实了键合颜料后半导体单晶锗表面增加了C-N,S-C,C-O等键,结果与键合的颜料分子结构相符,表明两种光敏染料通过锗氧键共
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