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期刊论文
半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜
半导体硅上激光诱导化学沉积镍薄膜
来源 :应用化学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fanybul8899
【摘 要】
:
由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性,在表面处理技术中的应用越来越广泛.在金属、半导体和高聚物基体上,从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意,这
【作 者】
:
刘冰
龚正烈
【机 构】
:
南开大学新能源材料化学研究所,郑州煤炭管理干部学院
【出 处】
:
应用化学
【发表日期】
:
1999年1期
【关键词】
:
激光诱导
化学沉积
半导体硅
镍薄膜
laser induced electroless deposition
nickel
semiconductor sil
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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由于激光具有高能量密度、高单色性以及良好的相干性,在表面处理技术中的应用越来越广泛.在金属、半导体和高聚物基体上,从水溶液进行激光诱导的化学沉积引起了人们的极大注意,这种工艺在微电子电路及器件上有广泛的应用前景.与传统的化学镀相比,它具有明显的优越性...
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