功能-结构-体化NiCr／NiSi薄膜热电偶的制备

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【摘要】

：

采用多层薄膜结构制备了NiCr／NiSi薄膜热电偶，该薄膜热电偶依次由M基超合金基片、McrAlY过渡层、Al2O3热氧化层、Al2O3绝缘层、NiCr／NiSi薄膜热电偶层以及Al2O3保护层构成。主要

【作者】

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王从瑞蒋洪川陈寅之张万里刘兴钊唐磊于浩

【机构】

：

电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,中国燃气涡轮研究院测控室

【出处】

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测控技术

【发表日期】

：

2011年10期

【关键词】

：

NiCr/NiSi薄膜热电偶时效处理 SEEBECK系数相对灵敏度 NiCr/NiSi thin film thermocouples ageing tr

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采用多层薄膜结构制备了NiCr／NiSi薄膜热电偶，该薄膜热电偶依次由M基超合金基片、McrAlY过渡层、Al2O3热氧化层、Al2O3绝缘层、NiCr／NiSi薄膜热电偶层以及Al2O3保护层构成。主要研究了热电偶层薄膜厚度和时效处理对热电偶性能的影响以及温度对Al2O3绝缘层绝缘性的影响。静态标定结果表明，热电偶层厚度对NiCr／NiSi薄膜热电偶性能几乎没有影响。时效处理可显著提高NiCr／NiSi薄膜热电偶的热电性能和相对灵敏度。所制备的NiCr／NiSi薄膜热电偶的Seebeck系数达到37pN

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