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简述了光学光刻技术在双重图形曝光、高折射率透镜材料及浸没介质、32nm光刻现状及22nm浸没式光刻技术的进展，指出了光学光刻技术的发展趋势及进入22nm技术节点的前景。
浸没式光刻向22nm挺进
【摘 要】
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简述了光学光刻技术在双重图形曝光、高折射率透镜材料及浸没介质、32nm光刻现状及22nm浸没式光刻技术的进展，指出了光学光刻技术的发展趋势及进入22nm技术节点的前景。
【机 构】
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长庆实业集团有限公司,甘肃林业技术学院
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2009年8期
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