论文部分内容阅读
探讨了在185,253.7,337.1 nm的条件下,卤代烷类化合物CH3Br、CH2Br2、CF2ClBr、CF3Br、CF2HCl、CF3Cl的光解离机理,对CH3Br+O2/O3、CH2Br2+O2/O3、CF2ClBr+O2/O3、CF3Br+O2/O3、CF2HCl+O2/O3、CF3Cl+O2/O3等体系的光化学反应过程及其产物进行了分析,重点讨论了含F卤代烷光氧化的共同产物CF2O的产生机理和它的稳定性,并探讨了控制卤代烷类化合物损耗臭氧层的途径.