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在不同的温度下烧结制备NiO靶,用射频磁控溅射法淀积NiO/Ni81Fe19双层膜,研究了不同的温度烧结NiO靶对NiO/NiFe双层膜特性的影响,结果表明,使用不同的烧结温度制备的NiO靶溅射所得的NiO膜中Ni的化学价态及其含量不同,进而影响NiO/Ni81Fe19双层膜的磁滞回线的矩形度及层间交换耦合作用。