【摘 要】
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有效地结合激光干涉法和化学刻蚀法,提出一种制备高密度、高衍射效率无机光栅的新方法.采用溶胶-凝胶法和化学修饰法合成具有紫外感光性的含锆溶胶,并在(100)硅基板上制备含
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有效地结合激光干涉法和化学刻蚀法,提出一种制备高密度、高衍射效率无机光栅的新方法.采用溶胶-凝胶法和化学修饰法合成具有紫外感光性的含锆溶胶,并在(100)硅基板上制备含锆感光性凝胶薄膜.利用该薄膜,结合激光干涉技术和热处理工艺制备出周期为1μm的无机ZrO2薄膜光栅.为了提高光栅的深宽比,采用碘饱和的KOH各向异性刻蚀剂对无机光栅进行湿法化学刻蚀,从而有效地提高了光栅的衍射效率.对刻蚀后的光栅进行表面镀金处理,提高光栅的表面光洁度和反射率使得光栅的衍射效率得到进一步的提高.
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