【摘 要】
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各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.现综合评述美国Rudolph研究公司应用材料公
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各种薄膜工艺参数和质量(厚度、折射率的数值及其均匀性等)的精确、快速测定和控制,在半导体器件生产、研制中有着极其重要的作用.现综合评述美国Rudolph研究公司应用材料公司、Gaertner科学公司和Sagax国际公司开发的从手动到自动椭偏仪系列的几代椭偏仪产品,并和其它薄膜厚度测量技术进行比较.
The precise and rapid measurement and control of process parameters and quality (thickness, index of refraction, uniformity, etc.) of various films play an extremely important role in the production and research of semiconductor devices. A comprehensive review on the application of Rudolph’s research materials Several generations of ellipsometer products from the manual to automatic ellipsometer series developed by the company, Gaertner Scientific and Sagax International are compared to other film thickness measurement techniques.
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