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从单晶硅内氢杂质的引入 ,氢钝化施主 ,钝化受主 ,钝化缺陷等几方面对近年来单晶硅内氢杂质的特性研究进行了综述 ,强调了氢加速氧扩散、加速热施主与氧沉淀的形成等性质 ,讨论了氢在单晶硅内的存在状态及硅片在氢气氛中的退火特性。
单晶硅内氢杂质特性研究进展
【摘 要】
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从单晶硅内氢杂质的引入 ,氢钝化施主 ,钝化受主 ,钝化缺陷等几方面对近年来单晶硅内氢杂质的特性研究进行了综述 ,强调了氢加速氧扩散、加速热施主与氧沉淀的形成等性质 ,讨
【机 构】
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山东师范大学半导体研究所,山东师范大学化学系
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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2001年06期
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