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在硅半导体生产中，作为单晶硅、氮化膜、氧化膜气相成长用气；作为硅铝膜蚀刻用气，需消耗多种氢化物(如甲硅烷、砷烷、磷烷)和卤化物(如三氯化硼、三氟化硼、氯化氢)。作为光电管和高速管用而大有希望的Ⅲ-V族半导体的生产过程中，同样消耗这类气体。
半导体用特种气体的处理方法干法处理装置
【摘 要】
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在硅半导体生产中，作为单晶硅、氮化膜、氧化膜气相成长用气；作为硅铝膜蚀刻用气，需消耗多种氢化物(如甲硅烷、砷烷、磷烷)和卤化物(如三氯化硼、三氟化硼、氯化氢)。作为光电管
【出 处】
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低温与特气
【发表日期】
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1988年1期
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