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光学探测系统电磁屏蔽设计与应用

来源 :红外与激光工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：nana119

【摘 要】

：

光学探测系统在高功率微波系统运行造成的强辐射、强电磁干扰环境下工作,HPM产生的强电磁脉冲会通过后门耦合的方式由探测器前端光学镜头进入内部的电路系统造成光学探测系统

【作 者】

：

卓红艳 刘志强 彭文 叶鹏 刘志辉 

【机 构】

：

中国工程物理研究院应用电子学研究所,四川绵阳,621900;四川九洲电器集团有限责任公司,四川绵阳,621000

【出 处】

：

红外与激光工程

【发表日期】

：

2020年6期

【关键词】

：

光学探测系统 高功率微波系统 电磁屏蔽 红外光窗 

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光学探测系统在高功率微波系统运行造成的强辐射、强电磁干扰环境下工作,HPM产生的强电磁脉冲会通过后门耦合的方式由探测器前端光学镜头进入内部的电路系统造成光学探测系统瞬间黑屏、图像抖动、器件毁坏等现象,通过采用光学玻璃金属丝夹层的方法研制光窗,在2.4 GHz±100 MHz频段内电磁屏蔽性能达到了65 dB,同时满足探测目标的光窗透过率的要求.经过应用后表明:加载了这种电磁屏蔽光窗的光学探测系统在HPM工作时图像稳定,未受到干扰.

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