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基于一种新型的陶瓷抛光机，建立了抛磨均匀性的数学模型，通过对影响陶瓷墙地砖抛磨机抛磨均匀性的多方面因素进行了分析和模拟仿真，探讨了抛磨机各运动参数和几何参数对磨削均匀性的影响，并在该机器上进行现场的正交抛光试验，试验数据与模拟结果完全吻合，对该类机械的设计和改进具有十分重要的参考价值。
基于陶瓷抛光机抛磨运动建模及试验研究
【摘 要】
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基于一种新型的陶瓷抛光机，建立了抛磨均匀性的数学模型，通过对影响陶瓷墙地砖抛磨机抛磨均匀性的多方面因素进行了分析和模拟仿真，探讨了抛磨机各运动参数和几何参数对磨削均匀
【机 构】
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华南理工大学机械工程学院
【出 处】
：
机械设计与制造
【发表日期】
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2008年9期
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