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峰背比法判断X射线辐射分选机预选低品位钼矿的最佳工艺条件
峰背比法判断X射线辐射分选机预选低品位钼矿的最佳工艺条件
来源 :矿冶 | 被引量 : 0次 | 上传用户:swan159357
【摘 要】
:
以峰背比法定性判断X射线辐射分选机分选低品位钼矿石的最佳工艺条件。试验研究表明,X射线辐射分选机在分选含有不同粒级的低品位钼矿原矿时,X射线管最佳激发电压应该选择45
【作 者】
:
刘明宝
印万忠
韩跃新
孙中强
【机 构】
:
东北大学,东北大学冶金研究所有限公司
【出 处】
:
矿冶
【发表日期】
:
2012年3期
【关键词】
:
峰背比
激发电势
最佳测距
peak to background ratio
excited voltage
optimal excited voltage
【基金项目】
:
国际合作重大项目(2010DFR70060)
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以峰背比法定性判断X射线辐射分选机分选低品位钼矿石的最佳工艺条件。试验研究表明,X射线辐射分选机在分选含有不同粒级的低品位钼矿原矿时,X射线管最佳激发电压应该选择45 kV,而测量距离在4 cm左右时,可获得最佳测量结果。
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