金属硅化物及其在肖特基势垒IRCCD焦平面阵列中的应用

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叙述了金属硅化物的形成、组分、性质和金属硅化物形成过程中的问题。简述了金属硅化物的形成机理、分析技术及其在金属硅化物(Pd_2Si,PtSi 和IrSi)肖特基势垒红外电荷耦合器件焦平面阵列中的应用。
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