采用高能12MeV电子辐照技术制造快速可控硅

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报道了采用最佳能量(高能12MeV)电子,辐照快速可控硅,解决了低能(≤4MeV)电子辐射照快速控硅热稳定性差的难题,这对我国半导体器件的电子辐照推广应用将有一定的经济价值。
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