【摘 要】
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论述了 Ｓ Ｔ Ｍ 电子束光刻技术的 机理与特点。利用 Ｈ Ｚ Ｎ Ａ Ｎ Ｏ—Ⅳ型 Ｓ Ｔ Ｍ 进 行了 Ｓｉ（ １００ ） 表 面光刻试验，详细探索了试验原理、方案和工艺步骤，并对试验结果进行了分析。在大气环境下获得
【机 构】
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南阳理工学院,华中理工大学,华中理工大学
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论述了 Ｓ Ｔ Ｍ 电子束光刻技术的 机理与特点。利用 Ｈ Ｚ Ｎ Ａ Ｎ Ｏ—Ⅳ型 Ｓ Ｔ Ｍ 进 行了 Ｓｉ（ １００ ） 表 面光刻试验，详细探索了试验原理、方案和工艺步骤，并对试验结果进行了分析。在大气环境下获得了深度＜ １００ｎ ｍ 、宽度＜ ２５ ｎ ｍ 的刻蚀线
The mechanism and characteristics of S T M electron beam lithography are discussed. Si (100) surface lithography was carried out by using HSTN A-N O-Ⅳ S T M, and the principle, scheme and process steps were explored in detail. The test results were also analyzed. In the atmosphere, the depth of <100n m, the width of <25 n m etching line
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