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采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积 Au/NiCr/Ta多层金属膜利用XRD分析晶体取向,SEM观察表面和断面形貌,AFM研究表面粗糙度,纳米压入研究薄膜硬度.结果表明薄膜表面粗糙度依赖于基体沉积温度,并且影响薄膜电阻和纳米硬度.
Au／NiCr／Ta多层金属膜的表面粗糙度和纳米压入硬度的研究
【摘 要】
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采用磁控溅射方法在Si-(111)基片上沉积 Au/NiCr/Ta多层金属膜利用XRD分析晶体取向,SEM观察表面和断面形貌,AFM研究表面粗糙度,纳米压入研究薄膜硬度.结果表明薄膜表面粗糙度
【机 构】
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西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安空间无线电技术研究所
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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2002年5期
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