氨化硅基Ga2O3／Al2O3制备GaN薄膜性质研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：spring2011

【摘要】

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研究了Ga2O3/Al2O3膜反应自组装制备GaN薄膜.首先利用磁控溅射法在硅衬底上制备Ga2O3/Al2O3膜,再将Ga2O3/Al2O3膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到GaN薄膜.用傅里叶红外谱仪(FTI

【作者】

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魏芹芹薛成山孙振翠庄惠照王书运

【机构】

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山东师范大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

GAN Ga2O3/Al2O3膜氨化磁控溅射 GaN Ga2O3/Al2O3 film ammoniating magnetron sputtering

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研究了Ga2O3/Al2O3膜反应自组装制备GaN薄膜.首先利用磁控溅射法在硅衬底上制备Ga2O3/Al2O3膜,再将Ga2O3/Al2O3膜在高纯氨气气氛中氨化反应得到GaN薄膜.用傅里叶红外谱仪(FTIR),X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)对试样进行结构、组分和形貌分析.通过分析薄膜各方面的性质,得出了用此方法制备氮化镓薄膜的Al2O3缓冲层最佳的厚度为15 nm左右,最佳氨化条件是在900℃下氨化15 min.

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